ラボ用コーティングマシン
100mm ラボ用フィルムアプリケーター マイクロメーター調整式ドクターブレードコーター
商品番号 : TB02
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- コーティング幅
- 100 mm
- 膜厚範囲
- 0 - 3500 µm
- 調整分解能
- 10 µm
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製品概要




このラボスケールのフィルムアプリケーターは、平坦な基板上に精密で再現性の高いウェットフィルムを塗布することができ、高度な表面コーティング評価に欠かせないツールです。2つの高精度マイクロメーターヘッドを搭載しており、研究者はドクターブレードの隙間をミクロン単位で微調整できるため、繊細な分析や実験ワークフローにおいて均一なスラリー塗布が可能です。
主にバッテリーの研究開発で使用され、正極・負極電極スラリー、固体電解質膜、セラミックテープ、結晶膜、および特殊な機能性ナノコーティングの塗布に優れています。多様な流体粘度に対応する汎用性の高い設計により、学術機関、産業界、パイロットラインのラボ環境において、水系懸濁液、有機ペースト、複雑なポリマー製剤の間をシームレスに移行できます。
高耐久で耐腐食性の合金から作られており、過酷な化学的・機械的条件下でも優れた寸法安定性と長期的な耐久性を保証します。幾何学的に最適化されたプロファイルとコンパクトな設置面積により、取り扱いが容易で、迅速なセットアップと、繰り返しのテストプロトコルにおける一貫した高精度のフィルム塗布を実現します。
主な特徴
- デュアル精密マイクロメーターによる隙間制御:統合されたツインマイクロメーターヘッドにより、コーティングブレードの垂直調整を独立かつ同期して行うことができ、0~3500 µmの正確な隙間を10 µmの目盛り分解能で設定可能です。
- 耐腐食性構造合金:高品質のステンレスおよび処理済み金属部品から製造されており、強力な化学溶剤、酸性スラリー、有機添加剤に対しても耐性があり、構造的完全性を維持し長寿命を実現します。
- 広いウェット膜厚調整範囲:最大3500 µmまでの広範な調整範囲を提供し、極薄のナノメートルスケールのフィルムから厚い粘性スラリーのコーティングまで、1台で対応可能です。
- 幾何学的に最適化された流体チャネリング:洗練された構造設計により、スラリーの漏れを防ぎつつ、ガラス、ホイル、ポリマー基板上でのスムーズで摩擦のない移動を促進します。
- 簡素化されたゼロ点校正プロトコル:直感的なデュアルスクリューロック機構を備えており、基準となる平坦なプレートに対してゼロ点合わせを迅速に再校正できるため、コーティング作業ごとに一貫したベースライン精度を確保できます。
- コンパクトで人間工学に基づいたフォームファクター:薄型かつ軽量な設計により、手動操作や自動ドクターブレードへの統合が容易で、クリーンルームのベンチ、グローブボックス、小型ラボフードに最適です。
- エッジからエッジまでの高い均一性:精密研磨されたブレードエッジが、100mmのコーティング幅全体にわたって均一なせん断力を提供し、エッジへの溜まりやサンプル表面の膜厚ムラを排除します。
用途
| 用途 | 説明 | 主な利点 |
|---|---|---|
| バッテリー電極スラリーコーティング | リチウムイオン、ナトリウムイオン、全固体電池スラリーを銅やアルミの集電箔に塗布。 | 非常に均一な質量負荷と膜厚を確保し、局所的なホットスポットを防ぎ、電気化学セルの性能試験を改善します。 |
| 先端セラミックテープキャスティング | 積層セラミックコンデンサや基板製造のための機能性セラミックスラリーや誘電体グリーンシートの塗布。 | ドクターブレードの隙間を一定に保ち、焼結セラミック層のボイド、ピンホール、密度ムラを排除します。 |
| 機能性ナノフィルムおよび光学コーティング | 精密なナノメートルスケールの機能性コーティング、ゾルゲル混合物、薄い保護膜を特殊ガラスやシリコンウェハーに塗布。 | 厳格な光透過率や表面エネルギーの研究に必要なミクロン単位の膜厚調整(10 µmステップ)が可能です。 |
| 半導体および結晶膜研究 | 前駆体溶液や有機半導体ペーストを剛性および柔軟性のある結晶基板に塗布。 | 高い耐薬品性により汚染を防ぎ、繊細な電子薄膜研究全体で純粋な化学的完全性を維持します。 |
| ポリマー膜および導電性ペーストの研究開発 | ポリマー電解質膜、導電性インク、接着剤コーティングを柔軟な基板に塗布。 | スムーズな幾何学的流動設計により、スラリーの引きずりや筋の発生を防ぎ、多様な粘度において欠陥のない膜塗布を実現します。 |
技術仕様
主要機器パラメータ
| パラメータ | 仕様詳細 |
|---|---|
| 商品番号 / モデルコード | TB02-100 |
| コーティング幅 | 100 mm |
| 調整可能なコーティング膜厚範囲 | 0 – 3500 µm |
| 調整ステップ / 目盛り分解能 | 10 µm |
| 外形寸法 (L x W x H) | 120 mm x 87 mm x 110 mm |
| 機器重量(正味) | 1.5 kg |
| 構造材質 | 高品質耐腐食性合金 |
| 制御機構 | デュアル精密マイクロメーターヘッド(デュアルロックネジ付き) |
モデルファミリー比較 (TB02シリーズ)
| モデル識別子 | コーティング幅 | 膜厚範囲 | ステップ分解能 | 寸法 (L x W x H) | ユニット重量 |
|---|---|---|---|---|---|
| TB02-50 | 50 mm | 0 – 3500 µm | 10 µm | 70 mm x 87 mm x 110 mm | 1.0 kg |
| TB02-100 | 100 mm | 0 – 3500 µm | 10 µm | 120 mm x 87 mm x 110 mm | 1.5 kg |
| TB02-150 | 150 mm | 0 – 3500 µm | 10 µm | 170 mm x 87 mm x 110 mm | 2.0 kg |
| TB02-200 | 200 mm | 0 – 3500 µm | 10 µm | 220 mm x 87 mm x 110 mm | 2.5 kg |
操作および校正手順
| 手順 | 操作ガイドラインおよび技術管理 |
|---|---|
| 材料の塗布 | アプリケーターを対象の基板上に配置し、準備したコーティングスラリーをリザーバーフレームにロードし、一定の速度でデバイスを前方に引いて、校正されたブレードの隙間からスラリーを押し出します。 |
| 膜厚調整 | 2つの上部マイクロメーターヘッドを均等に調整して、スクレーパーブレードを上下させます。各目盛りは正確に10 µmの高さ変化に対応しており、最終的なウェット膜厚を制御します。 |
| ゼロ位置校正 | ユニットを超平坦な基準プレート上に置き、2つのマイクロメーターロックネジを緩め、両方のデジタル/目盛り表示をゼロにリセットします。両手でしっかりと下向きの圧力をかけてブレードをプレートに密着させ、両方のロックネジを締め、スクレーピング精度を確認します。 |
本製品を選ぶ理由
- 優れたマイクロメーター精度:明確な10 µm目盛りのデュアル微調整ヘッドにより、フィルム塗布を完全に制御でき、要求の厳しい研究環境においてバッチ間の高い再現性を保証します。
- 堅牢な耐腐食性構造:高品質の耐薬品性材料から構築されており、過酷な溶剤や腐食性のスラリー製剤に対しても、劣化や機械的公差の損失なしに耐えられます。
- 汎用性の高いワークフロー適応性:標準的な100mm幅に加え、補完的なサイズ(50mm~200mm)も用意されており、材料合成の初期段階からバッテリーのパイロットテストまでシームレスな拡張性を提供します。
- 迅速なフィールド校正:実用的なゼロ点調整設計により、あらゆる平坦な表面で迅速な再校正が可能であり、セットアップのダウンタイムを最小限に抑えつつ、ラボグレードのコーティング精度を維持します。
見積もりのご依頼や、特定のラボ研究要件に合わせたブレード寸法のカスタマイズについては、弊社の技術営業チームまでお問い合わせください。
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