小型実験用自動フィルムコーティング乾燥機

製品概要

この小型実験用自動フィルムコーティング乾燥機は、精密なフラットベッドコーティングと制御された加熱乾燥をコンパクトな実験プラットフォームに統合しています。モーター駆動によるコーティングは安定した調整可能な動作を提供し、付属のフィルムアプリケーターによりコーティング厚を制御可能です。真空アルミニウムプレートが、銅箔、アルミ箔、その他の基板を処理中に変形させることなく確実に固定します。

本装置は、セラミックフィルム、結晶フィルム、バッテリー材料フィルム、特殊ナノフィルムなどの高温フィルム研究用に設計されています。コンパクトな寸法のため、グローブボックスのパスボックスを通過させることができ、制御雰囲気下でのワークフローに適しています。また、外部真空ポンプに接続することで、グローブボックス内での操作も可能です。

大面積の均一加熱によりチャンバー内の正確な温度均一性を維持し、デジタル温度コントローラーが室温から130°Cまでの制御された乾燥を実現します。PLCとタッチスクリーン操作によりパラメータ設定が簡素化され、材料研究において再現性の高いコーティングおよび乾燥条件の維持を支援します。

主な特長

• グローブボックス対応のコンパクト設計： 小さな設置面積により、グローブボックスのパスボックスを通過可能です。コンパクトな外形寸法は、貴重な実験室や制御環境のスペースを節約します。

• モーター駆動フラットベッドコーティング： コーティングブレードはモーター駆動により、基板上で安定した動作を維持します。コーティング速度はタッチスクリーンから無段階に調整でき、プロセス開発を制御可能です。

• コーティング速度調整可能： リン酸鉄リチウムスラリーなどの材料を処理する場合、コーティング速度は0〜120 mm/sの範囲で調整可能です。この調整範囲により、さまざまなスラリーやフィルム研究条件でのプロセス最適化をサポートします。

• 精密な膜厚制御： 付属のフィルムアプリケーターによりコーティング厚を調整可能で、ブレードの厚さ調整範囲は0〜5 mmです。コーティング精度は±3 μmに達し、視認性を高めるための1 μm単位のダイヤルゲージ（オプション）も利用可能です。

• 真空アルミニウム基板プレート： 真空プレートは、銅箔、アルミ箔などの基板を素早く吸着・解放します。真空固定により、コーティング中の基板の変形を防ぎ、作業エリア全体で安定した位置決めをサポートします。

• 柔軟な真空供給： オイルフリー真空ポンプが装置に内蔵されています。装置をグローブボックス内に設置する場合は、真空プレートを動作させるために外部真空ポンプが必要です。

• 均一な加熱乾燥： 大面積加熱によりチャンバー内の正確な温度均一性を促進します。乾燥システムは室温から130°Cまで動作し、温度制御精度は±1°Cです。

• タッチスクリーンPLC制御： PLCベースのタッチスクリーン制御により、コーティング速度、コーティングストローク、温度関連の動作パラメータを設定するための便利なインターフェースを提供します。コーティングストロークは制御画面から無段階に調整可能です。

• 省スペースな実験室構成： コンパクトな筐体にコーティング、真空固定、加熱乾燥の各機能を0.4 kWのシステムに統合しています。この構成により、実験規模のフィルム作製においてベンチスペースを効率的に活用できます。

用途

技術仕様

最大コーティング面積は長さ200 mm、幅100 mmで、実験規模のフィルム作製に最適な作業ゾーンを提供します。コーティングストロークはタッチスクリーンで設定し、無段階に調整できるため、基板サイズや配合要件に合わせてアクティブストロークを合わせることができます。これは、同じ研究ワークフローで複数のサンプル寸法やコーティング長を扱う場合に便利です。

モーター駆動のコーティング機構は、フラットベッド上で安定した移動を提供するように設計されています。調整可能なコーティング速度は0〜120 mm/sの範囲で、リン酸鉄リチウムスラリーが代表的な適用材料として仕様に記載されています。速度はタッチスクリーンで調整されるため、オペレーターは手動操作に頼ることなく、再現性のあるプロセス設定を確立できます。

標準のフィルムアプリケーターは、付属の仕様では「100フィルムアプリケーター」とされています。手動ドクターブレードコーティング用に、コーティングロッドなどの他の計量ツールを選択することも可能です。これにより、コーティング方法の比較、異なるスラリー挙動のテスト、または特殊なフィルム配合への装置の適応において、実験室に柔軟性をもたらします。ブレードの厚さ調整範囲は0〜5 mmで、コーティング精度は±3 μmと規定されています。

より詳細な視覚的厚さ測定が必要な用途向けに、1 μmダイヤルゲージをオプションで用意しています。これにより、コーティングギャップを設定または監視する際に、より詳細な表示測定リファレンスを提供します。調整可能なブレード厚、選択可能な計量ツール、モーター駆動の組み合わせにより、単一の固定条件ではなく、構造化されたプロセス開発をサポートします。

真空アルミニウムフラットプレートは、長さ230 mm、幅130 mm、高さ30 mmです。銅箔、アルミ箔、その他の基板を迅速に配置および取り外すことを目的としています。真空固定は、コーティング中に基材を所定の位置に保持し、基板の変形を防ぐように設計されています。装置にはオイルフリー真空ポンプが1台内蔵されています。グローブボックス内での操作には、参考仕様として外部真空ポンプへの接続が必要です。

統合された加熱乾燥システムは室温から130°Cまで動作し、デジタル温度コントローラーを使用します。温度制御精度は±1°Cと規定されています。大面積の均一加熱によりチャンバー内の正確な温度均一性を促進し、作業エリア全体で一貫した乾燥条件をサポートします。この機能は、セラミック、結晶、バッテリー材料、特殊ナノフィルムサンプルを含む高温コーティング研究に関連しています。

電源要件は220 V/50 Hzで、定格電力は0.4 kWです。ユニットの重量は15 kg、外形寸法は長さ375 mm、幅225 mm、高さ190 mmです。これらの寸法は、ベンチトップへの配置やグローブボックスのパスボックスを通過させる移動に適しています。PLCとタッチスクリーン制御により、コーティングストロークや速度調整を含むパラメータ設定のための操作インターフェースを提供します。

本製品を選ぶ理由

• 統合されたプロセス制御： コーティング、真空基板固定、加熱乾燥を1つのコンパクトな実験システムに統合し、個別の処理装置を調整する手間を軽減します。

• 一貫した実験条件： モーター駆動コーティング、無段階調整可能なストロークと速度、±3 μmのコーティング精度、±1°Cの温度制御により、再現性の高い研究結果をサポートします。

• 制御雰囲気への適合性： コンパクトな構造はグローブボックスのパスボックスを通過するように設計されており、真空プレートは保護雰囲気下での作業中に箔のハンドリングをサポートします。

• 柔軟な材料研究プラットフォーム： セラミック、結晶、バッテリー材料、特殊ナノフィルムの研究をサポートし、異なるプロセス要件に合わせてオプションのコーティングロッドや1 μmダイヤルゲージを利用可能です。

• 効率的な実験室運用： コンパクトな0.4 kW設計、タッチスクリーンPLC制御、内蔵オイルフリー真空ポンプ、調整可能なコーティングパラメータにより、持続的な実験開発作業のための実用的なプラットフォームを提供します。

見積もり、アプリケーションレビュー、またはコーティング材料、基板、制御雰囲気ワークフロー、乾燥要件に合わせたカスタムソリューションについては、お問い合わせください。

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