研究用途精密プレス加工向け 10T真空自動ホットプレス

製品概要

本卓上型ホットプレスは、10トンの自動油圧シリンダーを真空チャンバーと二重加熱プラテンと統合し、研究開発および産業用研究室環境において正確で再現性のある熱プレス加工を実現します。本システムは真空または不活性ガス雰囲気下での高速処理を目的として設計されており、サイクルタイムを抑えつつ高品質な試料調製を可能にします。

主な用途は高分子フィルムのラミネート加工、バッテリー電極の接合、高度なセラミックの圧粉成形、薄膜加工です。材料開発や小規模生産において均一な加熱と正確な圧力制御を要求する大学研究室、産業界の研究開発・品質管理部門でご利用いただけます。

CE認証を取得した部品と堅牢なスチールフレームで構成されており、過酷な日常使用においても長期的な信頼性を確保しています。大容量真空ポンプと応答性の高いPIDコントローラーが安定した性能を維持する一方、自動油圧システムがオペレーターの介入を削減し、毎回再現性の高い結果を得られます。

主な特長

• 米国研究用電源規格対応: 標準AC 208V/60Hz単相電源で動作し、北米の大学・産業用電力系統に変圧器不要で直接接続可能です。
• 高速真空引き: 標準搭載の240 L/min（8.5 CFM）ロータリーベーンポンプが、コンパクトなチャンバー内を2分以内に＜−0.1 MPaまで排気し、プロセスサイクルを大幅に短縮します。
• 大容量加熱プラテン: 対称構造の200 mm × 200 mmプラテンに3500Wの加熱素子アレイを搭載し、常温から300°Cまで均一な温度分布を実現、大面積ラミネートや柔軟性フィルムの加工に最適です。
• 応答性の高い圧力制御: 自動油圧システムが最大10トンの荷重を±0.1トンの精度で供給し、直感的なタッチスクリーンからプログラムして正確な力の印加を行えます。
• 不活性ガス対応: SUS強化型チャンバーにより、真空サイクル後の窒素・アルゴンパージが可能で、酸素に敏感な材料を酸化から保護します。
• モジュール式制御アーキテクチャ: 標準のPIDタッチスクリーンコントローラー、またはオプションの高度なSiemens PLC（多段階プロファイリング、レシピ保存、データロギング機能付き）から選択可能です。
• 柔軟な圧力設定: プラテン全面を使用すると2.5 MPaの接触面圧が得られますが、小径ダイス（例：直径50 mm）を使用することで10トンの力を集中させ、高圧圧粉成形に必要な50.9 MPaの圧力を実現できます。

用途

技術仕様

圧力・面積に関するエンジニアリングノート: 最大機械容量は10トン（100 kN）です。プラテン面積が200×200 mmのため、全面試料に印加される最大接触面圧は2.5 MPa（362 psi）となります。20 MPaを超える高圧粉末圧縮成形には小径ダイス（例：直径50 mm）をご使用ください。最大荷重時に50.9 MPaの圧力が得られます。

制御システムオプション

本製品を選ぶ理由

• 実績のある長期信頼性: 産業グレードの真空・油圧部品を使用して設計されており、長年の研究室連続運転でも安定した性能を発揮し、ダウンタイムを最小限に抑えます。
• 精密なエンジニアリング: 平面研磨プラテン、先進的なロードセルフィードバック、剛性の高いフレーム構造により、均一な圧力分布と再現性のある結果を確保し、高品質な研究・生産に不可欠な性能を提供します。
• 柔軟なカスタマイズ性: モジュール式制御アーキテクチャにより、標準タッチスクリーンから開始し、プロセス要件の進化に合わせて本体を交換することなく後から高度なPLCシステムにアップグレード可能です。
• 認証された安全・適合性: CE認証と米国電源規格対応の電源により、研究施設への導入が容易で、厳格な安全・電気規格に適合しています。
• 専門家によるサポート: 応答性の高い技術チームが専用のアプリケーションガイダンスとアフターサービスを提供し、お客様のプロセスを最適化し生産性を維持します。

具体的な用途に関するご相談やカスタマイズ見積のご依頼は、今すぐお問い合わせください。

業界リーダーからの信頼