電動真空ホットプレス 実験室用高温真空プレスシステム

製品概要

この電動真空ホットプレスは、精密な温度制御、プログラム可能な圧力プロファイル、および密閉された不活性雰囲気チャンバーをコンパクトな実験室システムに統合しています。次世代エネルギー貯蔵、先進複合材料、および機能性セラミックスを開発する材料科学者のために特化して設計されています。本装置は、最高300℃の加熱と最大30トンの加圧力を組み合わせており、清浄で酸素不含の条件下で、信頼性の高い熱圧着、ラミネート、および高密度化を可能にします。

主な用途には、酸化や汚染が性能を損なう電池電極、固体電解質、および多層コンポーネントの製造が含まれます。システムのアクティブ冷却設計によりサイクルタイムが大幅に短縮され、反復的なR&Dおよび小ロット生産の両方に適しています。チャンバーのドアの安全インターロックおよび過熱保護により、無人運転時のオペレーターの安全が確保されます。

頑丈なSUS 304ステンレス鋼製チャンバーで設計され、直感的なタッチスクリーンを備えたインダストリアルPLCによって駆動されるこのユニットは、日々一貫した再現性のある結果を提供します。その実証済みの設計と厳格な製造プロセスにより、過酷な高温・高圧サイクル下でもダウンタイムを最小限に抑えます。

主な特徴

• 真空および保護雰囲気チャンバー： 厚肉のSUS 304ステンレス鋼製チャンバーは、高真空基準で機械加工および溶接されており、-0.1 MPaまでの排気を可能にします。2つのガスインレットにより、窒素またはアルゴンでのパージを制御でき、熱サイクル全体を通じて敏感なサンプルの酸化を防ぐ不活性の微小環境を作成します。チャンバーは低ガス放出のために漏洩テストされており、逆流を防ぐためのチェックバルブを備えています。
• 精密な温度均一性： 2つのプラテンは、合計定格5.6 kWの埋め込みヒーターによって加熱され、2～5℃/分の急速加熱を実現し、400×400 mmエリア全体で表面均一性を維持します。専用のPIDアルゴリズムにより、温度設定値が狭い許容範囲内に維持され、材料特性の再現性に不可欠です。
• 統合されたアクティブ冷却： 両方のプラテンに機械加工された内部水路により、均熱段階の直後に強制冷却が可能になり、冷却時間が劇的に短縮されます。外部循環チラー（≥1.5 HP）に接続すると、システムは数分で300℃から常温近くまでサイクルでき、1日のサンプルスループットを向上させ、熱ショックを回避します。
• プログラム可能な多段レシピ： インダストリアルHMIタッチスクリーンコントローラーは、温度と圧力の同期シーケンスをサポートしています。オペレーターは、ランプ、保持、遷移（例：200℃に加熱、20トンを10分間印加、その後温度を保持しながら力を低減）をプログラムし、リアルタイムのデュアルプロットグラフでプロセスを視覚化できます。すべてのレシピとプロセスデータは、QA/QCトレーサビリティのためにUSB経由でエクスポートできます。
• 高力精密プレス： PLCを介して制御されるクローズドループ油圧システムは、優れた再現性で最大30トン（300 kN）を発揮します。この精度により、プラテンエリア全体で一貫した圧着力が確保され、材料の無駄とやり直しを防ぎます。
• 頑丈でメンテナンスが容易な構造： プレスフレームとチャンバーは完全にSUS 304ステンレス鋼で製作されており、優れた耐食性と耐久性を提供します。精密研磨されたプラテンと高品質のシールにより、連続運転下でもメンテナンス要件を最小限に抑え、サービス寿命を延長します。
• 柔軟な設備統合： 真空ポンプ、ガス供給、および冷却水の標準インターフェースにより、既存のラボ設備への接続が簡素化されます。単相220V電源入力が標準ですが、高スループット設定向けにオプションで380V三相構成も利用可能です。

用途

技術仕様

次の表は、XP23電動真空ホットプレスの技術仕様を詳しく示しています。

プロセス制御およびソフトウェア

インダストリアルHMIは、包括的なレシピ管理を提供します。オペレーターは、多段サイクルを定義できます。例えば、指定温度に加熱し、温度を保持しながら圧力を段階的に印加し、圧力を解放して焼きなましのために加熱を維持し、最後にアクティブ冷却をトリガーします。システムは、温度と圧力をデュアルカーブでリアルタイムにプロットし、プロセスの忠実度を即座に評価できます。履歴ログを含むすべてのプロセスデータは、分析とトレーサビリティのためにUSBにエクスポートでき、現代のQA/QC要件を満たします。

必要なユーティリティ： フローレス設置を確実にするために、納品前に以下の外部ユーティリティをご用意ください。

• 冷却源：プラテン冷却用外部水チラー（≥1.5 HP、流量 ≥15 L/min）。
• 真空源：外部真空ポンプ（2段ロータリベーンまたはドライスクロール、排気量 ≥4 L/s）。
• ガス供給：圧力調整器付きN₂/Arボンベ（推奨入力0.1～0.2 MPa）。

この製品を選ぶ理由

• 長く使える堅牢な設計： オールSUS 304ステンレス鋼構造は腐食や変形に抵抗し、数十年にわたる寸法安定性と信頼性の高いパフォーマンスを保証します。すべてのチャンバー、プラテン、シールの厳格な工場出荷時テストにより、生産品質の作業に即座に対応できる状態でお届けします。
• 妥協のないプロセス精度： 統合されたPID温度コントローラーとクローズドループ圧力システムにより、プロセス変数が狭い範囲内で維持され、何度でも同じ結果が得られます。繊細な電池フィルムの接合から技術セラミックスの高密度化まで、この真空ホットプレスは一貫した材料特性を提供します。
• 生産性を向上させる設計： アクティブ水冷却やプログラム可能な自動シーケンスなどの機能により、アイドル時間とオペレーターの介入を最小限に抑えます。大きな400×400 mmプラテンは、複数のサンプルまたはより大きなコンポーネントを収容でき、均一性を損なうことなくスループットを向上させます。
• 世界クラスのサポート： KINTEKのグローバルサービスネットワークは、生涯の技術相談、迅速なスペアパーツ配送、およびアプリケーションサポートを提供します。当社のエンジニアは、設置、トレーニング、プロセス開発の支援を利用可能であり、投資の価値を最大化できるよう支援します。
• カスタマイズ能力： 標準構成に加え、独自のプロセス要件に合わせて、カスタマイズされたプラテン材質、圧力範囲、およびインターフェースオプションを提供します。ラボ用の完全なカスタムソリューションにこのシステムを適応させる方法について話し合うため、当社チームにお問い合わせください。

お見積もりの依頼や、特定のプロセス要件に合わせたカスタム構成について話し合うため、今日お問い合わせください。

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