30T 電気式真空ホットプレス

製品概要

この電気式真空ホットプレスは、精密な温度制御、プログラマブルな圧力プロファイル、および密閉された不活性雰囲気チャンバーをコンパクトなラボラトリーシステムに統合しています。次世代エネルギー貯蔵、先進複合材料、機能性セラミックスを開発する材料科学者のために特化して設計されています。本装置は、最大300℃の加熱と30トンの最大加圧力を組み合わせており、清潔で酸素のない条件下で、信頼性の高い熱圧着、ラミネート、および高密度化を可能にします。

主な用途には、酸化や汚染が性能を損なう電池電極、固体電解質、多層コンポーネントの製造が含まれます。システムの能動冷却設計によりサイクルタイムが大幅に短縮されるため、反復的なR＆Dから小ロット生産まで適しています。チャンバーのドアの安全インターロックおよび過熱保護により、無人運転時のオペレーターの安全が確保されます。

頑丈なSUS 304ステンレス鋼製チャンバーでエンジニアリングされ、直感的なタッチスクリーンを備えた産業用PLCによって駆動されるこのユニットは、日々一貫した再現性のある結果を提供します。その実証された設計と厳格な製造プロセスにより、過酷な高温・高圧サイクル下でもダウンタイムを最小限に抑えます。

主な特徴

• 真空＆保護雰囲気チャンバー: 厚肉のSUS 304ステンレス鋼製チャンバーは高真空基準で加工および溶接されており、-0.1 MPaまでの排気を可能にします。2つのガス入口により、窒素またはアルゴンでのパージ制御が可能で、熱サイクル全体を通じて敏感なサンプルの酸化を防ぐ不活性の微小環境を作り出します。チャンバーはガス放出が最小限になるようリークテストされており、逆流を防ぐためのチェックバルブを備えています。
• 精密な温度均一性: 2つのプラテンは合計定格5.6 kWの埋め込みヒーターによって加熱され、2～5℃/分の急速加熱を実現し、400×400 mmエリア全体で表面均一性を維持します。専用のPIDアルゴリズムにより、温度設定値が狭い許容範囲内に保たれ、材料特性の再現性に不可欠です。
• 統合された能動冷却: 両方のプラテンに加工された内部水路により、均熱段階の直後に強制冷却が可能になり、冷却時間が劇的に短縮されます。外部循環チラー（≥1.5 HP）に接続すると、システムは数分で300℃から常温近くまでサイクルでき、1日のサンプルスループットを向上させ、熱ショックを回避します。
• プログラマブルな多段レシピ: 産業用HMIタッチスクリーンコントローラーは、温度と圧力の同期シーケンスをサポートしています。オペレーターは、ランプ、保持、遷移（例：200℃に加熱、20トンを10分間適用、その後温度を保持したまま力を低減）をプログラムし、リアルタイムのデュアルプロットグラフでプロセスを視覚化できます。すべてのレシピとプロセスデータはQA/QCトレーサビリティのためにUSB経由でエクスポート可能です。
• 高力精密プレス: PLCを通じて制御されるクローズドループ油圧システムは、優れた再現性で最大30トン（300 kN）を発揮します。この精度により、プラテン面全体で一貫した圧着力が確保され、材料のロスとやり直しを防ぎます。
• 頑丈でメンテナンスの少ない構造: プレスフレームとチャンバーは完全にSUS 304ステンレス鋼で製造されており、優れた耐食性と耐久性を提供します。精密研磨されたプラテンと高品質のシールにより、連続運転下でもメンテナンス要件を最小限に抑え、サービス寿命を延長します。
• 柔軟な設備統合: 真空ポンプ、ガス供給、冷却水の標準インターフェースにより、既存のラボラトリーユーティリティへの接続が簡素化されます。単相220V電源入力が標準ですが、高スループット設定向けにオプションで380V三相構成も利用可能です。

用途

技術仕様

次の表は、XP23電気式真空ホットプレスの技術仕様を詳述しています。

プロセス制御＆ソフトウェア

産業用HMIは、包括的なレシピ管理を提供します。オペレーターは多段サイクルを定義できます。例えば、指定温度に加熱し、温度を保持しながら圧力を段階的に適用し、圧力を解放してアニーリングのために加熱を維持し、最後に能動冷却をトリガーします。システムは温度と圧力をデュアルカーブでリアルタイムにプロットし、プロセスの忠実性を即座に評価できます。履歴ログを含むすべてのプロセスデータは、分析とトレーサビリティのためにUSBにエクスポートでき、現代のQA/QC要件を満たします。

必要なユーティリティ: フローレスな設置を保証するため、納品前に以下の外部ユーティリティをご用意ください。

• 冷却源: プラテン冷却用外部水チラー（≥1.5 HP、流量 ≥15 L/min）。
• 真空源: 外部真空ポンプ（2段ロータリベーンまたはドライスクロール、排気量 ≥4 L/s）。
• ガス供給: 圧力レギュレーター付きのN₂/Arボンベ（推奨入力0.1～0.2 MPa）。

この製品を選ぶ理由

• 長く使える頑丈な設計: オールSUS 304ステンレス鋼構造は腐食や変形に抵抗し、数十年にわたる寸法安定性と信頼性の高いパフォーマンスを保証します。すべてのチャンバー、プラテン、シールの厳格な工場出荷テストにより、プレスは生産品質の作業に即座に対応できる状態で届きます。
• 妥協のないプロセス精度: 統合されたPID温度コントローラーとクローズドループ圧力システムにより、毎回のランでプロセス変数が狭い範囲内に維持されます。繊細な電池フィルムの接合から技術セラミックスの高密度化まで、この真空ホットプレスは一貫した材料特性を提供します。
• 生産性を向上させる設計: 能動水冷却やプログラマブルな自動シーケンスなどの機能により、アイドル時間とオペレーターの介入を最小限に抑えます。大きな400×400 mmプラテンは複数のサンプルまたは大型コンポーネントを収容でき、均一性を損なうことなくスループットを向上させます。
• 世界クラスのサポート: KINTEKのグローバルサービスネットワークは、生涯にわたる技術相談、迅速なスペアパーツ配送、およびアプリケーションサポートを提供します。当社のエンジニアは設置、トレーニング、プロセス開発を支援するために常駐しており、投資の価値を最大化できるようサポートします。
• カスタマイズ能力: 標準構成に加え、独自のプロセス要件に合わせて、カスタマイズされたプラテン材質、圧力範囲、インターフェースオプションを提供します。このシステムをラボラトリー用の完全なカスタムソリューションに適応させる方法については、当社チームまでお問い合わせください。

お見積もりの依頼や、特定のプロセス要件に合わせたカスタム構成についてのご相談は、今日お問い合わせください。

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