真空加熱ラボプレス

電池電極接合・材料加工向けコンパクト卓上プログラマブル真空ホットプレス

商品番号 : XP30

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

最高動作温度: 500 °C（高温仕様）
最大プレス力: 10トン（100 kN）
定盤寸法: 180 mm × 180 mm

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製品概要

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本卓上プログラマブル真空ホットプレスは、制御された雰囲気下での精密油圧プレスと均一加熱を両立し、コンパクトな設置面積で先端材料加工を実現します。最大10トンの締付力を提供し、PIDプログラマブル温度制御を備えた二重加熱プラテンを統合しており、研究開発や小規模生産に欠かせないツールです。

電池研究における電極接合や固体電解質の調製、高分子科学におけるラミネート加工や複合材料の製造に広く使用されています。真空または不活性ガス（N₂/Ar）雰囲気下で試料を処理できるため、酸化を防止し、高い材料完全性を確保します。

要求の厳しい実験環境向けに設計された本装置は、水冷プラテン、CE安全認証、様々な動作温度に対応する設定可能な熱モジュールを備え、安定した性能と長期的な信頼性を保証します。

主な特長

設定可能な熱性能：用途の要件に合わせて、標準加熱パッケージ（室温～300°C、2400 W）と高温モジュール（室温～500°C、3600 W）から選択可能です。
プログラマブルタッチスクリーン制御：PLCインターフェースにより、温度・圧力プロファイルの正確な多セグメントプログラミングが可能で、バッチ全体で優れた再現性を実現します。
密閉真空チャンバー＆不活性ガスフラッシング：酸化に敏感な試料を≦ -0.1 MPaの相対真空下、または外部ポンプ使用時に最大1×10⁻³ Torrの到達真空下で処理可能で、N₂/Arのバックフィリング機能を備えています。
デュアルプラテン水冷：両プラテンに内蔵された水路により、プロセス後の急速冷却を可能にし、油圧シールを保護してサイクルタイムを短縮します。オプションの循環チラーに対応しています。
柔軟なポンプ統合：自立型設置面積のための内蔵ロータリーベーンポンプ、より深い真空のための外部高性能ポンプステーション、既存の設備真空システムへの接続から選択可能です。
グリッド対応の地域電圧：208～220 V / 60 Hz電源に事前設定されており、北米をはじめとする60 Hz産業用グリッドと即座に互換性があります。
堅牢な安全設計：堅牢なフレームとインターロックドアを備えCE認証を取得しており、高圧・高温条件下でも安全な運転を保証します。
汎用的な試料適合性：60 mmの開口（デイライト）と180 mm角のプラテンにより、幅広い試料厚さと金型サイズに対応します。

用途

用途	説明	主なメリット
電池電極接合	真空または不活性ガス中で、熱と圧力を加えて正極/負極材料を集電体にラミネート加工します。	均一な接触と酸化の最小化により、電気化学性能とサイクル寿命を向上させます。
固体電解質プレス	次世代電池用に、固体電解質粉末を圧縮・焼結して緻密なペレットに成形します。	高密度かつ低気孔率により、イオン伝導性と機械的安定性を向上させます。
ポリマーラミネート加工	電子パッケージ、医療機器、フレキシブルディスプレイ向けにポリマーフィルムまたはシートを接合します。	正確な温度・圧力制御により気泡や層間剥離を防止し、光学的透明性と接合強度を確保します。
複合材料の製造	金属、セラミック、炭素繊維プリプレグを一体化して高性能複合パネルに成形します。	真空支援プレスによりボイドを排除し、層間せん断強度を向上させます。
粉末冶金の圧縮成形	酸化防止のため真空下で、金属またはセラミック粉末をニアネットシェイプのプリフォームに圧縮成形します。	高いグリーン密度と均一性を実現し、焼結収縮と変形を低減します。
MEA（膜電極接合体）ホットプレス	燃料電池製造において、プロトン交換膜を触媒層に接合します。	正確な圧力分布と不活性雰囲気により、触媒活性と膜の完全性を維持します。
先端セラミックスの焼結	アルミナ、ジルコニア、窒化ケイ素などの工業用セラミックスを、圧力支援で緻密化します。	理論密度に近い緻密度を達成しながら、焼結温度と保持時間を低減します。

技術仕様

すべての仕様はXP30プラットフォームに基づいており、2つの熱モジュール設定で提供されます。

主要仕様 – 熱モジュール

パラメータ	XP30-STD（標準）	XP30-HT（高温）	備考
モデル名称	XP30-STD	XP30-HT	選択可能な熱モジュール
プラテン使用温度	室温～ 300 °C	室温～ 500 °C	プログラマブルPIDタッチスクリーン制御
ヒーター出力	2400 W	≦ 3600 W	対称加熱エレメント
最大使用圧力	≦ 10トン (100 kN)	≦ 10トン (100 kN)	常温（冷間）状態での定格
圧力制御	自動補正付きタッチスクリーンコントローラー	自動補正付きタッチスクリーンコントローラー	多セグメントプログラマブル
プラテン寸法	180 mm × 180 mm	180 mm × 180 mm	二重加熱プラテン
プラテン開口（デイライト）	60 mm	60 mm	薄型試料向けに最適化
真空度（相対）	≦ -0.1 MPa	≦ -0.1 MPa	チャンバーゲージでの測定値
真空度（到達）	—	最大1×10⁻³ Torr	外部ポンプステーション使用時に達成可能
雰囲気ガス適合性	N₂ / Ar	N₂ / Ar	不活性ガスパージ・バックフィリング
冷却方式	循環水冷	循環水冷	プラテン内蔵水路
電源	AC 220V / 60Hz	AC 208V – 220V / 60Hz	60Hz系統、単相
安全認証	CE	CE	完全認証取得済み

構成パッケージ

パッケージ	付属ポンプ	最高温度	耐熱グローブ	推奨用途
ベース	外部ポートのみ（ポンプなし）	300 °C (XP30-STD)	オプション	既存の真空ポンプを保有する予算重視の研究室
外部ポンプステーション	外部高性能ロータリーベーンポンプステーション	500 °C (XP30-HT)	オプション	クリーンな隔離または高真空が必要な用途
標準一体型	内蔵ロータリーベーンポンプ	500 °C (XP30-HT)	付属（1組）	最小設置面積での自立型ターンキー運用

オプションアップグレード

循環水冷チラー（オプション $1,200）：専用の冷却水ラインがない実験室向け。急速なプラテン冷却のためのクローズドループ水流を提供します。
高温保護手袋：別途購入可能。500 °C付近での安全な取り扱いのため、標準一体型パッケージに付属しています。
交換用真空シール：長時間の加熱運転に定格された高温フッ素ゴムOリングです。

本製品を選ぶ理由

実証された設計信頼性：CE認証の安全インターロックを備えた堅牢な油圧フレームを基盤に、要求の厳しい研究環境での長年の連続運転にわたり安定した性能を提供します。
精密なプロセス制御：PLCタッチスクリーンによる多セグメント温度・圧力プログラミングにより、研究開発・品質管理用途で不可欠な優れた再現性を確保します。
カスタマイズ可能なオプションを備えたモジュール設計：熱モジュール、ポンプ構成、アクセサリーを柔軟に選択できるため、研究室は過剰投資することなく、ニーズに正確に合わせてシステムを調整できます。
グローバルな互換性とサポート：60 Hz電源網に設定可能で、迅速な技術サポートをバックアップとしているため、国際的な研究室にシームレスに統合されます。
優れた製品品質：対称加熱エレメントから二重水冷プラテンまで、すべてのコンポーネントは熱均一性と長い耐用年数のために設計されています。

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