ラボ用加熱プレス

研究室試料調製用 24トン 200×200mm 一体型加熱プレス

商品番号 : XP55

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

最大プレス圧力: 0 – 24トン
定盤温度範囲: 常温 – 300 °C
定盤寸法: 200 × 200 mm

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製品概要

製品画像1

本一体型加熱プレスは、堅牢な24トン油圧システムと精密制御された加熱プラテンを組み合わせ、200×200mmの大きな作業領域全体に均一な圧力と温度を供給します。本装置は、一貫性のある再現可能な熱圧縮が不可欠な試料調製（例：電池電極の固結化、高分子フィルムのラミネーション）を行うハイスループット研究室環境向けに設計されています。コンパクトなオールインワン設計により、プレスフレーム、油圧動力装置、温度制御を1つの卓上設置面積に統合し、設置の手間を抑えつつ操作性を最大化しています。

主な用途は、固体電解質ペレットの成形を中心とした電池研究、高分子フィルムのエンボス加工、先端材料試験です。本システムは、300°Cまでの精密温度制御と24トンまでの信頼できるホットプレスを必要とする大学研究室、研究機関、品質管理施設で広く採用されています。水冷式プラテンにより温度設定値間の急速なサイクル運転が可能で、冷却時間を最大60%削減し、1日あたりの処理量を大幅に向上させます。

過酷な日常使用に耐えるよう設計されており、硬化鋼プラテンからPID温度コントローラまで、すべてのコンポーネントが長期安定性のために選定されています。本装置は安定した保圧性能と均一な熱分布を実現し、長時間運転でも試料の完全性を確保します。世界中の設置実績で10年以上の実証済み性能を持ち、包括的なCE安全認証を取得している本プレスは、研究室の生産性と作業者の安全性への優れた投資となります。

主な特長

高容量力: 油圧システムは最大24メトリックトンのクランプ力を閉ループサーボ制御で供給し、長時間の保圧でも±0.5%の圧力精度と保持安定性を確保します。この広い力範囲により、繊細な高分子フィルムから高密度金属粉末まで、多様な試料に対応可能です。
デュアルゾーンPID温度制御: 200×200mmの各プラテンに独立した600WヒーティングエレメントとK型熱電対が搭載され、精密な閉ループ制御を実現しています。先進的なPIDアルゴリズムにより、室温から300°Cまでの全範囲で±2°Cの温度安定性を維持し、加熱速度は最大15°C/分まで調整可能です。
一体型水冷システム: 加工された冷却チャネルを通るアクティブな水循環により、300°Cから60°Cまでのプラテン温度低下を10分以内に実現し、自然対流に比べて60%の性能向上を達成しています。クイックリリース継手と閉ループチラーオプションにより、水の消費量と汚れを最小限に抑えます。
剛性のある全スチールフレーム: フレームは応力除去溶接を施した厚肉鋼板で製造され、上部プラテンは4つの精密研削リニアベアリングでガイドされています。この構造により、全ストローク50mmにわたってプラテンの平行度を0.05mm以内に維持し、不均一な圧密化や試料のテーパー変形を排除します。
使いやすいデジタルインターフェース: 4.3インチカラータッチスクリーンからすべての機能に直感的にアクセスでき、レシピごとに最大10段階の昇温/保持セグメントを持つ多段階プログラムを作成可能です。圧力と温度のリアルタイムトレンドがグラフィック表示され、品質トレーサビリティのためにUSBからデータをエクスポートできます。
安全インターロック: CE安全指令に準拠し、プレスゾーンから作業者を離しておくために操作に両手同時起動が必要です。一体型の機械式ストップと油圧リリーフバルブにより過行程・過圧を防止し、使用者と装置の両方を保護します。
ワイドプラテンフォーマット: 200×200mmの広々とした作業面により、複数の小型試料の同時処理または1つの大型モールドの処理が可能で、処理量が向上します。オプションのアダプタプレートで多様なモールドサイズに対応できるため、多様な試料形状に対して汎用性の高いプレスとなっています。
卓上設置対応: 全体寸法がわずか950×260×525mmで、油圧システムと冷却システムが一体型となっているため、標準的な研究室の作業台にすっきり収まり、必要な接続は単相220V/50Hzの電源のみで、外部チラーや空気供給は不要です。
データロギングと接続性: コントローラはGxP文書化のために圧力と温度のログをUSB出力に対応し、オプションのRS-232インターフェースにより研究室LIMSシステムとの統合が可能です。

用途

用途	説明	主なメリット
電池電極・電解質のプレス成形	リチウムイオン電池や次世代電池用の正極/負極粉末の固結化、固体電解質ペレットの成形。	均一な密度分布によりホットスポットを防止し、ペレット全体で安定したイオン伝導度を確保します。
高分子フィルムのエンボス加工・ラミネーション	多層高分子フィルムの熱接合、マイクロ流体チップの封止、ラボオンアチップデバイスの表面テクスチャ加工。	精密な温度・圧力制御により、熱劣化させることなく微細なナノ構造を維持します。
FTIR・XRF用ペレット調製	赤外分光分析用の透明KBrペレット、蛍光X線分析用の融解ビーズの作製。	空気の混入や厚さのばらつきを排除し、再現性の高いスペクトルベースラインを得られます。
複合材料の開発	金属基複合材料のホットプレス、セラミック強化ポリマー、炭素繊維プリプレグの固結化。	制御された温度・圧力プロファイルの下で、繊維の含浸最大化とボイド除去を実現します。
医薬品錠剤のパイロット生産	処方試験や安定性試験のための粉末配合物の小ロット錠剤圧縮。	プレスパラメータの完全なデータロギングにより、FDA/EMAの文書化やスケールアップ研究を支援します。
粉末冶金の焼結	最終焼結前の金属・セラミック粉末の昇温下での予備圧縮。	グリーン密度を向上させ、焼結収縮を低減して、ネットシェイプ精度を向上させます。
半導体ウェーハの接合	制御された力と温度を用いたシリコンウェーハまたはチップオンフレックスアセンブリの熱圧縮接合。	ボイドのない均一な接合ラインを実現し、微小電気機械システム（MEMS）製造に不可欠な品質を得られます。

技術仕様

パラメータ	XP55
モデル	XP55
プレス容量	0 – 24 トン
プラテン作業温度	室温 – 300 °C
加熱出力（合計）	1200 W (2 × 600 W)
プラテン寸法	200 × 200 mm
プラテン冷却	一体型水循環
温度制御	デュアルゾーンPID、±2 °C安定性
表示・制御	4.3インチタッチスクリーン、プログラム対応
電源	220 V, 50 Hz, 単相
全体寸法（幅 × 奥行 × 高さ）	950 × 260 × 525 mm
正味重量	180 kg

本製品を選ぶ理由

実証済みの信頼性: 世界中の過酷な研究環境で15年以上の連続使用実績があり、平均故障間隔は10,000サイクルを超えています。油圧シールとヒーティングエレメントは高温下での長時間運転に定格されており、日常メンテナンスは定期的な清掃とシール点検に限られます。
精密設計: CNC加工されたプラテンは0.03 mm以下の平面度に表面研削され、4本のガイドコラムは精密ホーニング加工により全ストロークで平行度を0.05 mm以内に維持します。これにより試料のテーパー変形を排除し、すべてのプレスペレットやラミネートで一定の厚さを確保します。
急速な熱応答: 低熱質量プラテンとアクティブ水冷により、300°Cから60°Cまで最短8分のサイクルタイムを実現可能です。この迅速な処理により研究室の生産性を最大化し、特にラン間の時間が重要な多交替運転で有利です。
グローバルな規格準拠とサポート: 電気システムはCE認証を取得し、工場出荷時に単相220V/50Hz電源向けに設定されており、プラグアンドプレイで設置可能です。専任のアプリケーションエンジニアが無制限のリモート技術サポートを提供し、スペアパーツは即発送のために世界中の拠点で在庫しています。
カスタマイズ対応: オプションのモールドアダプタ、真空チャンバー、データエクスポートモジュールにより、特定のプロセス要件に合わせてプレスを調整可能です。不活性雰囲気グローブボックスとの統合でも、特殊な試料形状向けのカスタムツーリングでも、当社のエンジニアチームがターンキーソリューションを提供できます。正確なシステムの構成とDDP配送の見積もりをご希望の場合は、お問い合わせください。