Laboratory Coating Machine

自動フィルムコーティング乾燥機

商品番号 : TB04

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

塗工速度: 0～120 mm/s
加熱乾燥温度: 室温～130℃；精度±1℃
塗工精度: ±3μm；オプションで1μmダイヤルインジケーター表示

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製品概要

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この自動フィルムコーティング乾燥機は、フラットベッド式スラリーコーティング、基板の真空固定、制御された熱乾燥を1台のコンパクトなラボシステムに統合したものです。モーター駆動のアプリケーターが安定した調整可能な速度で基板上を移動し、真空アルミニウムプレートが銅箔、アルミ箔などの基板を歪みなく確実に保持します。統合された加熱カバーにより、設定された温度でコーティング直後のフィルムを乾燥させます。

本装置は、セラミックフィルム、結晶フィルム、バッテリー材料フィルム、特殊ナノフィルムなどの高温フィルム研究向けに設計されています。バッテリー研究開発ラボ、先端材料開発、セラミックス研究、粉体関連プロセス研究、および再現性のあるコーティング厚と制御された乾燥条件が不可欠な学術研究室に最適です。

大面積の均一加熱により作業チャンバー内の正確な温度分布をサポートし、PLCとタッチスクリーン制御によりプロセス設定の調整が容易です。コンパクトな設置面積のためグローブボックス内への設置も可能で、空気に対して敏感な材料を扱いながら、効率的で省スペースなワークフローを実現します。

主な特長

均一な大面積加熱：チャンバー全体に均一な温度条件を提供するよう設計されており、一貫した乾燥をサポートし、コーティング基板全体のプロセス変動を低減します。
モーター駆動フラットベッドコーティング：電動コーティング機構がアプリケーターを安定した制御可能な動作で基板上を移動させます。スラリーや薄膜プロセスの開発において、再現性の高いフィルム作製に貢献します。
コーティング速度調整：タッチスクリーンインターフェースを通じてコーティング速度を連続的に設定可能で、リン酸鉄リチウムスラリーなどの材料に対し0〜120 mm/sの動作範囲に対応します。
基板の真空固定：真空アルミニウムプレートにより、銅箔、アルミ箔などの基板を迅速に吸着・解放します。真空保持により移動を最小限に抑え、コーティング中の基板の平坦性を維持し、歪みを防ぎます。
フィルム厚調整：標準のフィルムアプリケーターにより精密なコーティング制御が可能で、アプリケーターのギャップは0〜6 mmの範囲で調整でき、さまざまな実験要件に対応します。
高いコーティング精度：コーティング精度は+/-3 umに達します。より微細な視覚的測定と調整が必要な場合は、1 umのダイヤルゲージを選択可能です。
制御された熱乾燥：加熱乾燥システムは室温から130°Cまで動作し、デジタル温度制御により+/-1°Cの精度でコーティング後の処理を再現性よく行えます。
PLCタッチスクリーン操作：制御インターフェースにより、コーティング移動距離、速度、温度、関連する動作設定の調整が簡素化され、複雑な手動操作なしでプロセスを構成できます。
グローブボックス対応のコンパクト設計：設置面積が小さいためグローブボックス内への設置が可能で、自動コーティング・乾燥機能を維持しながら貴重なラボスペースを節約します。
オイルフリー真空ポンプ内蔵：オイルフリー真空ポンプが1台付属し、装置に内蔵されています。作業環境を汚染することなく実用的な真空源を提供します。

用途

用途	説明	主な利点
バッテリー電極フィルム開発	銅箔、アルミ箔などの基板にバッテリー用スラリーを塗布し、制御された熱乾燥を行います。移動距離と速度の調整により、コーティング条件の比較研究をサポートします。	電極の厚み、乾燥挙動、スラリー配合を評価する際の再現性を向上させます。
セラミック薄膜研究	高温での膜形成や材料処理を伴う研究のために、セラミックスラリーフィルムを作製します。フラットベッド形式により、制御されたラボスケールのコーティング実験が可能です。	安定したコーティング動作と均一な加熱により、一貫したサンプル作製を実現します。
結晶フィルム作製	結晶関連のフィルム調査に使用される研究材料を塗布し、定義された温度条件下で乾燥させます。	フィルムの形態やプロセスパラメータの制御された開発をサポートします。
特殊ナノフィルム研究	コーティングギャップ、速度、基板の平坦性、乾燥条件を厳密に制御する必要がある小規模なナノ材料フィルムを作製します。	繊細な実験配合に対する微細なプロセス調整を可能にします。
グローブボックス内処理	コーティングおよび乾燥中に制御された雰囲気下での取り扱いが必要な材料に対し、グローブボックス内で本装置を操作します。	移送時の曝露を低減し、より制御された研究ワークフローを維持します。
材料科学の学術研究	薄膜コーティング、スラリー処理、熱乾燥に関する再現性の高い実験デモンストレーションや研究をサポートします。	自動動作、タッチスクリーン制御、コンパクトな設置を1つのアクセスしやすいプラットフォームに統合しています。
先端材料プロセススクリーニング	新材料の初期プロセス開発段階において、コーティング速度、アプリケーター設定、乾燥温度を比較検討します。	一貫したサンプル作製条件を維持しながら、パラメータのスクリーニングを加速させます。

技術仕様

本装置は、2つの構成で提供されています。以下の識別子はTB04シリーズの名称を使用しており、公称コーティング幅によってバリエーションを区別しています。異なる作業形式を必要とする用途向けに、オプションのコーティングメーターや拡大されたコーティング幅についてもご相談可能です。

パラメータ	TB04-150 構成	TB04-300 構成
コーティング方式	フラットベッドコーティング、標準100mmフィルムアプリケーター、コーティング幅100mm（拡張可能）、手動ドクターブレードコーティング用オプションのコーティングロッドおよびその他の計量デバイス	フラットベッドコーティング、標準250mmフィルムアプリケーター（スラリー保持プレートの有無を選択可能）、コーティング幅250mm（拡張可能）、手動ドクターブレードコーティング用オプションのコーティングロッドおよびその他の計量デバイス
コーティングストローク	約250mm、ストロークはタッチスクリーンで連続的に設定・調整可能	約300mm、ストロークはタッチスクリーンで連続的に設定・調整可能
コーティング駆動	モーター駆動、コーティング速度はタッチスクリーンで連続的に設定・調整可能	モーター駆動、コーティング速度はタッチスクリーンで連続的に設定・調整可能
コーティング速度	0-120 mm/s（リン酸鉄リチウムスラリー等）	0-120 mm/s（リン酸鉄リチウムスラリー等）
真空プレート	真空アルミニウムフラットプレート	真空アルミニウムフラットプレート
真空プレート寸法	L365 mm x W200 mm x H32 mm	L415 mm x W300 mm x H32 mm
アプリケーター厚調整範囲	0-6 mm	0-6 mm
コーティング精度	+/-3 um、オプションで1 umダイヤルゲージ表示	+/-3 um、オプションで1 umダイヤルゲージ表示
加熱・乾燥システム	室温〜130°C、デジタル温度コントローラー、精度+/-1°C	室温〜130°C、デジタル温度コントローラー、精度+/-1°C
電源	220 V/50 Hz	220 V/50 Hz
重量	50 kg	70 kg
外形寸法	L560 mm x W420 mm x H370 mm	L550 mm x W450 mm x H320 mm
真空ポンプ	オイルフリー真空ポンプ1台付属・内蔵	オイルフリー真空ポンプ1台付属・内蔵

操作手順は効率的なラボ作業のために整理されています。まず、電極シートやその他の基板を真空プレート上に置き、電源を入れて真空を作動させ、基板を確実に固定します。基板上にフィルムアプリケーターを配置し、コーティングスラリーを投入します。コーティングサイクルを開始し、電動機構によってアプリケーターを移動させ、自動的に膜を形成させます。

コーティング後、アプリケーターとプッシュロッドを取り外し、加熱カバーを閉じて、実験プロセスに応じて乾燥温度と時間を設定します。乾燥が完了したら、加熱カバーを開けてコーティングされた基板を取り出します。コーティング機構をリセットし、次のサイクルの準備を行います。この手順により、基板の固定、コーティング、乾燥が明確に分離され、プロセス段階間の不必要な取り扱いが削減されます。

適切なメンテナンスは、コーティング精度と動作の一貫性を維持するのに役立ちます。作業のたびに、アプリケーターヘッドと装置本体をアルコールを含ませた柔らかい布で丁寧に清掃してください。アプリケーターヘッドやダイヤルゲージなどの高精度部品は、優しく取り扱い、衝撃から保護してください。ダイヤルゲージを調整する際は、左右対称かつ均等に調整してください。

装置全体の留め具も定期的に確認してください。ネジ、ナット、ピン、その他の固定部品の緩みを点検し、機械的な動きや製品品質への影響を抑えるために必要に応じて締め直してください。これらの簡単な習慣は、コーティング機構を保護し、安定した基板の取り扱いを維持し、長期的な実験の再現性をサポートします。

本製品を選ぶ理由

統合されたプロセス制御：コーティング、真空固定、熱乾燥が1つの調整されたラボプラットフォームに統合されており、個別の装置間の移送を減らし、再現性の高いサンプル作製を簡素化します。
精密指向の構造：モーター駆動の移動、調整可能なアプリケーター厚、タッチスクリーン設定、オプションの1 um表示により、要求の厳しい薄膜開発作業に必要な制御を提供します。
一貫した熱性能：均一な大面積加熱と+/-1°Cの温度精度により、繰り返しの実験を通じて安定した乾燥条件を確立します。
柔軟な研究構成：2つのコーティング幅形式、拡張可能なコーティング幅、オプションの計量デバイス、オプションのスラリー保持プレートにより、さまざまな材料やプロセス規模に対応します。
実用的なラボ統合：コンパクトな寸法、グローブボックス互換性、内蔵のオイルフリー真空ポンプにより、専門的な研究環境への設置が容易です。